设备功能简介

电子束蒸发镀膜设备属于真空物理气相沉积PVD镀膜装备，在高真空环境下以高能电子束轰击镀膜材料使其气化，最终在样品表面沉积形成功能性薄膜。可适配高熔点金属与氧化物，膜层纯度高、致密度好。

设备工作原理

电子束蒸发是在高真空环境下，由电子枪发射的高能电子束经磁场偏转聚焦后，轰击坩埚中的材料表面，使膜料局部瞬间加热至3000℃以上高温而熔融蒸发，蒸发的原子或分子在衬底表面沉积形成薄膜。与传统热蒸发相比，电子束蒸发具有加热温度高、能量集中、坩埚污染小、薄膜纯度高等优势，特别适合钨、钼、钽、铂等高熔点金属及氧化物材料的镀膜。

设备应用场景

• 半导体器件金属电极、互连层制备
• 光学薄膜增透膜、增反膜、滤光膜制备
• 用于钙钛矿电池、固态电池、燃料电池的关键功能薄膜制备
• 实验室制备超导、磁性等功能薄膜，以及热控涂层