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无掩膜/激光直写光刻机

无掩膜/激光直写光刻机分享详情介绍

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光源375 nm、385 nm、405 n激光器

线宽:0.5μm0.6μm1.0μm1.5μm

● 光刻效率:最快3000mm2/min@5μm

● XY行程:55~205mm

● 样品尺寸:最小3mm*3mm   最大8 inch

● 应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、先进芯片封装、光通讯芯片光刻