设备功能简介

全自动在线式涂胶显影设备，作为光刻机配套工艺系统，可完成晶圆的涂胶、烘烤、显影全流程自动化处理。系统配备高精度胶泵与温控热板，胶厚均匀性与工艺重复性满足光刻工艺要求。

设备工作原理

涂胶显影机是光刻工艺的核心配套设备，通过三大核心步骤完成光刻图形转移的预处理与后处理：（1）涂胶工艺：高精度泵将定量光刻胶滴至晶圆中心，真空吸盘固定晶圆高速旋转，利用离心力使光刻胶均匀铺展成薄膜，转速与加速度直接决定胶膜厚度；（2）烘烤工艺：通过热板精确控制温度，去除光刻胶中溶剂，增强胶膜附着力与稳定性；（3）显影工艺：曝光后的晶圆经显影液喷淋或浸泡，使曝光区域（正胶）或未曝光区域（负胶）的光刻胶溶解，形成光刻图形。全自动传送系统按工艺配方自动完成各工序间晶圆传送。

设备应用场景

• 半导体器件、MEMS工艺光刻配套涂胶显影
• 微纳加工、光电子器件研发光刻工艺