实验室及中试线解决方案服务商
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无掩膜/激光直写光刻机
详情介绍 v 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器 v 线宽：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm v 光刻效率：最快3000mm2/min@5μm v XY行程：55~205mm v 样品尺寸：最小3mm*3mm 最大8 inch v 应用领域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、先进芯片封装、光通讯芯片光刻 上一个： 有掩膜光刻机 下一个： 步进式Stepper光刻机 |
